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              真空/低壓擴散爐
              產品型號:
              產品產地:
              發布日期:2020-08-21
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              詳細介紹

              真空/低壓擴散爐

              產品簡介:

              u 主要應用于半導體器件擴散工序POCL3或真空擴散工藝,系統采用閉管擴散的方式。

              u 控制終端采用工業計算機配備進口溫控儀表、質量流量計及完善的報警功能,保證整個工藝過程完全不受外界環境干擾,每管配備獨立的偏磷酸回收裝置,降低了石英的清洗頻次。

              產品特點:

              u 獨有的柔性自動門技術:大大降低外部環境對反應腔內影響,

              u 配合串級溫控和壓力自動調整技術,工藝參數實現精確控制。

              u 真正實現清潔擴散,有效改善工作區環境,降低對操作人員的危害,石英反應管清洗周期和設備的養護時間大大減少。

              u 控溫精度高,溫區穩定性好。5 段自動適時恒溫區:在恒溫區范圍內,可采用 5 Profile 熱偶配合spike熱偶進行串級溫控,溫控元件應用高精度智能溫控器;完整的控制方案確保從低溫到高溫狀態下,爐管內恒溫區的持續與真實性。

              u 壓力自動調整技術:快速溫度調整,實現精確控溫,降低外圍條件波動對工藝的影響,創造更加穩定可控的反應腔內氣氛。

              u 工藝舟軟著陸:工藝反應過程中,SiC 漿離開了反應管。一方面,實現了工藝舟的軟著陸,SiC 漿幾乎可以做到不清洗;另一方面,從機械方式來講,沒有漿板的阻擋,工藝片在石英管內才是真正意義上的閉管擴散。運行穩定可靠,基本實現免保養。

              u 自動化程度:采用模塊化工藝控制軟件,提高設備UP-TIME和可靠性、縮小體積,可獨立運行,實現真正集散式控制。即使上位機故障,工藝過程也不受影響。

              u 結構形式:水平熱壁式

              u 可配工藝管外徑:6~8英寸

              u 氣路系統密封性:1×10-7pa.m3/s

              u 均勻性:優于3%


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