ALD原子層沉積設備,原子層沉積設備ALD介紹,原子層沉積設備ALD前景
氣相沉積技術按照其原理可以分為化學氣相沉積(CVD, Chemical Vapor Deposition)和物理氣相沉積(PVD, Physical Vapor Deposition)。
5G基建提速，HVPE氮化鎵在5G通信中的小基站微波射頻中有廣泛中的應用，另外小米的氮化鎵充電器發布之后進行獨立零售，并且售價創下業內新低，將加速氮化鎵充電器的滲透，引發各大手機廠商跟進。
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